等离子增强化学气相沉积(PECVD)真空镀膜设备是在微波或射频的帮助下，电离出含有薄膜成分原子的气体，并在局部形成等离子体，等离子体具有很强的化学活性，容易发生反应，并将所需的薄膜沉积在基板上。为了使化学反应能够在较低的温度下进行，等离子体的活性被用来促进反应。因为它的优点是基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔少、不易开裂。
PECVD真空镀膜设备需要每隔几天保养一次，包括清洁MASK、更换支架等。因为需要清洁设备内部，所以在清洁过程中，有可能会导致内部的密封性失效，如果镀膜设备密封性失效了，那么镀出来的产品的膜就会厚度不一，相关的参数也是不合格的。
在真空镀膜工艺中，由于等离子体中的高速运动电子与中性反应气体分子相碰撞，会使中性反应气体分子变成碎片，或者是处于激活状态，这种情况下是非常容易发生化学反应的。因此真空镀膜设备对内部管道的泄漏要求非常高，必须使用华尔升的氦质谱检漏仪来检测漏点。
完成一次氦质谱检漏，就能保证真空镀膜设备的完好性，从而避免产生很多不良品，进而为企业节约了生产成本。
那么以上就是氦质谱检漏仪在PECVD镀膜设备工艺中是如何应用的相关内容，希望对大家有所帮助，如有需要，欢迎咨询。
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