半导体设备真空系统出现故障一般分为两类:一是真空泵组及测量系统的故障，另一个是真空系统的泄漏。对于第一类故障，检测真空泵的极限真空度或更换好的真空计就可以确认。对于第二类故障则需要检漏在对半导体设备检漏时常使用两种方法：静压检漏法和He质谱检漏法。静压检漏法就是用阀门将真空室与真空泵组隔开，测量其内部压强的变化。He质谱检漏法要复杂一些。

He质谱检漏仪一般需要拿到现场去，检漏仪内有分子泵，因此搬运时要轻拿轻放。常常选择检漏仪高灵敏度方式来检漏，这有利于保护分子泵。检漏仪的抽气能力有限，因此常常需要设备自己抽好真空。真空抽到0.5~ 10 Pa就行。等到漏率显示稳定或由稳定转成减少后再开始检漏。在检漏过程中如果需要对门阀、粗抽阀、放气阀等进行操作, 则必需先让检漏仪停止检漏并选择检漏口不放气，避免真空室突然进入大量气体而损坏检漏仪。真空抽到后应该关上门阀和粗抽阀，以免分流导致漏率测量值小于实际值。最好停掉设备上的分子泵和机械泵，从而避免它们的干扰; 有冷泵的设备要想检漏彻底应该停掉冷泵。用真空法检测双密封结构产品漏率时，常有漏率/ 缓慢升高的现象发生，因此在检漏过程中要注意这一点。另外，要求He 袋不漏气，一般要求喷出的He 流量少，这样有利于确认漏点位置，但是也有特殊情况，需要在某些He 不易到达的地方喷出较多He，以避免漏检。检漏时加装的波纹管不能检漏, 发现漏点后要进行第二次确认, 漏点维修后要再进行检漏确认。